Objeto
Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Clasificadores
Aparatos para medir radiaciones
Financiacion
Asociado al Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia