Objeto
Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas. LOT-0000: Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas en la memoria justificativa de la necesidad de contratar y en el pliego de prescripciones técnicas.
Clasificadores
Aparatos para medir radiaciones